当前所在位置: 首页 > 产品首页 >检测、测量 、自动化、工业IT >检查和检测 >有限元显微镜/X光显微镜/电子显微镜 >ALPhANOV双激光断层注入显微镜D-LMS
相关产品
产品介绍
用于双激光故障注入的 D-LMS 显微镜站是一个平台，允许独立聚焦和扫描两个激光点，用于集成电路的评估。双点注射工艺的理想选择，它提供了所有空间和时间的灵活性，可以通过背面分析电路
性能特点
集成电路评估双激光站(均通过显微镜点)
背面激光故障注入的理想选择
具有高分辨率物镜的1米以下单模激光光斑尺寸
两个激光光斑都具有完全独立的时间和空间调制
通过数百米的硅来观察集成电路路径上的激光点的照相机
高再现性和高分辨率激光光斑位移
包括三个阿尔法诺夫激光模块
可选功能与配件
光学镜头技术
光电发射套件
热激光刺激套件
通过CE认证的激光外壳完成自动设置
高分辨率目标
技术参数
单模光纤激光器
|
|
PDM+/PDM+ HP |
PDM4+ and PDM4+ HP |
|
脉冲持续时间 |
从1.5纳秒到连续波 |
从1.5纳秒到连续波 |
|
峰值功率 |
高达3.2瓦 |
高达10瓦 |
|
波长 |
980纳米；1064牛米 |
980纳米；1064牛米 |
|
重复率 |
从单发到250兆赫 |
从单发到250兆赫 |
|
命令接口 |
TTL/LVTTL /软件& dlls |
TTL/LVTTL /软件& dlls |
|
光束质量 |
单模 |
单模 |
InGaAs 红外相机
|
Captor |
640x512 µm |
|
动态量程 |
140 dB |
|
接口 |
USB(包含软件) |
电学
|
电压 |
220 V/110 V |
|
电流 |
16 A |
津公网安备12010102000946号
