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产品介绍
创新、敏感的生产工艺、不断提高的质量标准以及研发领域的快速发展，对半导体和光学行业以及纳米技术和微机械行业的生产和研发环境提出了日益严峻的挑战。很低的温度和湿度公差、气体和微粒污染的洁净度以及对客户工艺的声学、振动和电磁影响的屏蔽是实现生产工艺的核心因素。
性能特点
稳定和可重现的工艺环境
颗粒和化学污染物的沉积
准确的温度控制
声屏蔽
技术参数
产地：德国
空气流量：2.95 m³/h
空气温度：22 °C
温度稳定性：± 5 mK 至 ± 1 mK
湿度：33 % r.H.
湿度稳定性：± 0.3 % r.H.
声屏蔽：100 < f < 5000 Hz： -15 dB
磁屏蔽：10 < f < 200 Hz： -30 dB
洁净度：高
气体和微粒污染度：低
产品应用
半导体、光学行业、微机械行业等
津公网安备12010102000946号
