Planarcore 的PVA 刷设计用于在 CMP 后晶圆清洁应用中提供高性能和晶圆间的一致性。自创的穿芯模塑技术可使 PVA 与刷芯适配粘合，而不像标准 PVA 产品那样仅通过摩擦安装到刷芯上。一次性 Planarcore PVA 刷的尺寸稳定性还消除了与独立和预安装 PVA 产品相关的不确定性。由于 Entegris 的 Planarcore PVA 刷性能高，PVA 滑动、膨胀和同心度下降不再是问题。

减少工具停机时间：模压穿芯技术确保每次都能适配贴合。无需担心操作错误或不一致。由于刷与刷之间的尺寸稳定性和同心度不会发生变化，因此间隙处理更快、更容易。从头部晶片到尾部晶片，Planarcore 刷子和间隙都保持不变，确保了工艺的稳定性。Planarcore 电刷制造过程中的有效清洁流程缩短了晶圆冲洗和电刷磨合时间。更快的 CMP 工具启动可提高产量。

减少晶片上的缺陷：更清洁的 PVA、尺寸一致性和流量均衡可减少晶圆上的颗粒数，从而实现业内一致的晶圆性能。

将整个 Planarcore 刷（包括刷芯）浸没在 1 升 18 MΩ 去离子水中并挤压，以确保任何可能的污染都能很好地分布。然后用离子色谱法提取残留的去离子水。

高纯度 PVA

通过模芯结构成型

消除对齐和间隙问题，提高系统产量

闭模技术

减少工具停机时间

减少晶片上的缺陷

PVP1ARXR1：Planarcore AMAT Reflexion PP 铁芯，H₂O₂

PVP1AMMR1：Planarcore AMAT Mirra Mesa PP 内核，H₂O₂

PVP0ARXR1：Planarcore AMAT Reflexion PP 内核，NH₄OH

PVP0AMMR1：Planarcore AMAT Mirra Mesa PP-核，NH₄OH

产地：美国

芯材/边材结构材料：全聚丙烯结构

刷子结构材料：聚乙烯醇（PVA）

防腐剂：0.5 % H₂O₂ 或 NH₄OH

产品清洁度：

氟化物：F-，< 0.50 ppm（百万分之一）

氯化物：Cl-，< 0.75 ppm

硝酸盐：NO₃-，< 0.50 ppm

磷酸盐：PO₄^3-，<0.50 ppm

硫酸盐：SO₄^2-，<0.50 ppm

锂：Li+，< 0.10 ppm

钠：Na+，< 0.50 ppm

钾：K+，< 0.80 ppm

镁：Mg²⁺，< 0.20 ppm

钙：Ca²⁺，<0.50 ppm

外径尺寸：70 mm ±1.0 mm

同心度尺寸：< 0.76 mm（0.03 英寸）

PVA 典型特性：

30 % 压缩应力：90 g/cm²

孔隙率：87-91 %

吸水率：700-1100 重量百分比

孔径：70-250 μm（通过 SEM 扫描仪检测）

PVA 刷的应用：后 CMP