以耐用、可靠的在线平台提供实验室质量测量。Entegris 是设计和生产用于半导体制造工艺中的化学机械研磨 (CMP) 浆料和配制清洗剂的高精度分析仪器的市场供应者。我们的技术旨在确保复杂混合化学药剂的准确一致性，并实现 CMP 和配制清洗工艺的高产率。我们的 SemiChem 高等级工艺监控器（APM）是一种湿化学监控系统，可自动采样、分析和报告关键工艺的定量化学浓度。完整的在线化学监测可实时修正槽液成分，从而稳定控制工艺条件。该系统可提供化学浓度数据。当变化立即显现时，可能对产品质量产生负面影响的变化可以迅速得到纠正，从而帮助满足零缺陷容忍度和更高产品产量的要求。

提供业界准确的监测，以保持工艺化学成分和完整性

在产品质量下降之前检测挥发性化学物质的工艺偏差

将实验室技术转化为工艺，实现快速准确的工艺控制

平均故障间隔时间 (MTBF) > 8500 小时

提供化学浓度数据，使浆料/化学品分配系统能够提供准确的化学浓度

多个采样点、附加 5 毫升数字滴定管、附加传感器、联锁、试剂低浓度检测

产地：美国

分析方法：电位计法、标准添加法、光度法

电位计精度：显示值的± 0.2

标准添加精度：± 2.0 %示值

电位计精度：± 0.2 % 相对误差

标准添加精度：± 2.0 % 相对误差

测量时间：> 5 分钟/分析（视应用而定）

校准间隔：启动时

样品消耗量：< 5 mL/次分析

样品量：0.05 至 5 mL（根据应用而定）

样品温度：高达 93 °C (200 °F)

耗水量：< 1000 mL/分析

样品入口/回流：<207 kPa (30 psi)，0.5 L/min；1/4" 外径扩口接头，1" FPT 密封接头

去离子水：138 至 276 kPa (20 至 40 psi)；2.0 L/min；1/4" 外径扩口接头

CDA：414 至 552 kPa（60 至 80 psi）；1/4 英寸外径快速接头

排水口 工艺：3/4 英寸 NPT 重力排水口；橱柜：1/2 英寸 NPT 重力排水口

电源：110/220 VAC，50/60 Hz，1/0.5 A 现场可切换

排气：1-7/8" OD @ 17 CFM

用于控制金属 CMP 浓度、在微电子环境中的所有湿化学应用中均表现良好，包括：铜、钨、阻挡层和金属 CMP、配方清洁、DSP+、湿蚀刻、氮化物蚀刻、PAN 蚀刻、Piranha 蚀刻、高频、废水