高纯度控制。Entegris 的 GateKeeper GPU 气体纯化器专为提高纯度一致性、使用寿命和高纯度气体至关重要的微电子应用中的纯度而设计。利用我们在材料科学方面的研发知识，我们开发出了新一代 AP 气体净化产品，具有很高的价值和性能。过程控制和保护，纯度控制在低于十亿分之一 (ppb) 的水平；通过净化器的压降很低；通过压力设备指令 (PED) 的 CE 认证；在 ISO 9001:2015 工厂制造。成本效益高，使用寿命长 - 降低拥有成本。使用保障简单，采用环境温度净化 - 无需加热或供电即可运行；对方向（水平/垂直）不敏感

纯度达到 ppt 级

兼容多种气体，包括 Cl₂、HBr、HCl、CF₄、SO₂、SF₆ 等腐蚀性气体

净化器压降低

通过 CE 认证，符合压力设备指令 PED，在 ISO 9001-2000 工厂制造

可再生 - 解决了处理问题并降低了成本

使用寿命长--提高了拥有成本

使用环境温度净化

该组件包含额外的阀门和管道，以便工艺气体可以绕过净化器。Entegris 为许多标准 GPU 气体净化器提供 3 阀门和 5 阀门旁路组件（需单独购买）。

产地：美国

净化气体：AsH₃、PH₃

H₂O出口纯度：< 1 ppbV

O₂出口纯度：<1 ppbV

金属出口纯度：< 1 ppbV

出口颗粒过滤器：Wafergard - 316 不锈钢膜，20 μm 或 0.0015 μm

使用寿命：在入口湿度为 0.5 ppm 时为一年，寿命随入口杂质和流速而变化。

可再生：否

危险品 (DG)：否

工作温度：0 至 65 °C (32 至 149 °F)

泄漏等级：1 × 10^-9 atm cc/sec of He

外壳材质：316L 不锈钢

符合认证：CE 认证，符合压力设备指令 (PED)；设计符合 ASME 标准。

散装气体输送、光刻、外延、干法蚀刻、晶片生长、沉积