用于硅太阳能电池的激光椭偏仪 紧凑型创新设备，旨在测量沉积在纹理硅（单硅和多硅）衬底上的抗反射涂层的厚度和光学常数。可以轻松实现优化的入射角（12-90°），以获得沉积在多晶结构晶圆上的薄膜的大信号。金字塔结构可以定向以获得正确的测量值，同时将样品牢固地保持在适当的位置。

• 确定减反射涂层的薄膜厚度和光学常数（折射率和消光系数）
• 用于稳定性和自动校准的集成光学元件
• 微点聚焦光学元件，用于良好信号收集。
• 特别改装的样品架，适用于 156×156 mm 的样品池尺寸。
• 在线集成，实现快速过程控制。
• 符合智能软件标准。
• 样品对准：用于手动倾斜和高度调整的大信号检测。

• 测量波长：632.8 nm（氦-Ne激光）
• 样品台：兼容 156 × 156 mm
• 测角仪：55° - 90° 手动控制